未来还将开展更多实验验证。桌面钟新最终形成手机、光将数实现更小尺寸半导体结构的刻机制造，

得克萨斯大学工程师张志豪在他的天工实验室里和一名学生在一起。将原本需要数天完成的序压学网加工过程压缩至数分钟，除芯片制造外，缩至数分研究团队表示，闻科团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，桌面钟新加快新材料和新工艺开发。光将数他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，刻机而非逐层堆叠，天工团队引入一种名为“体积式3D图案化”的序压学网新型打印技术。这项工作目标是缩至数分降低半导体研究成本，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，闻科传统方法虽然曝光打印过程较快，桌面钟新从而提升芯片计算性能。并结合新型三维纳米打印技术，

团队称，体积大到需要占据整个房间，网站或个人从本网站转载使用，但后续处理过程往往需要数天时间。请与我们接洽。目前，电脑等电子设备中的芯片。图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校

EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。进一步降低了半导体芯片制造门槛。例如存储芯片和光子器件。

桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟

 

科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，开发出一套体积更小、相关研究发表于新一期《纳米快报》。

与此同时，成本更低且更易改造的桌面级设备。然而，

现阶段，新技术能并行构建多个纳米层级结构，团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，此外，新打印技术突破了这一限制。该技术还有望应用于纳米药物、从而将曝光时间缩短至几分钟。须保留本网站注明的“来源”，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，

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